Intel investiert in deutsch-japanisches EUV-Joint-Venture
XTREME technologies, Joint Venture der Jenoptik AG und Ushio Inc., wurde eine Finanzspritze von Intel Capital zur Entwicklung von Lichtquellen im extremen UV-Bereich für die Halbleiterproduktionstechnik der nächsten Generation zuteil.
XTREME technologies, ein Gemeinschaftsunternehmen der deutschen Jenoptik AG und der japanischen Ushio Inc., hat eine Finanzspritze von Intel Capital erhalten. Damit werde die Entwicklung von extrem ultravioletten Lichtquellen für Ausrüstungen der Halbleiterindustrie bei der Hightech-Schmiede mit Sitz in Jena und Göttingen unterstützt, teilte Jenoptik am Dienstag mit. Zur Höhe der Finanzierung wollte eine Unternehmenssprecherin keine Angaben machen. XTREME entstand 2001 als Joint Venture von Jenoptik und der Lambda Physik AG, deren Anteil Ushio 2005 übernahm.
Die Belichtung mit extremem UV-Licht gilt als der nächste große Sprung in der Halbleiterproduktionstechnik. Mit EUV-Lithografie sollen sich dereinst Halbleiter mit einer Strukturgröße von weniger als 40 Nanometern herstellen lassen. Die dazu benötigten Wellenlängen des extremen UV-Bereichs von 13,5 Nanometern, auch als weiche Röntgenstrahlen bezeichnet, stellen enorme Anforderungen an die Gerätehersteller. So lassen sich EUV-Strahlen beispielsweise nicht mehr durch Linsen bündeln, sondern müssen von Spiegelsystemen fokussiert werden. Intel hat seit 2004 eine EUV-Pilotanlage in Betrieb und will die Technik bereits ab 2009 zur Serienproduktion von Chips einsetzen. (mhe)
