Lithografie-Systeme von ASML: Handelskrieg geht in die nächste Runde

Die Niederlande weiten die Exporteinschränkungen nach China aus. Der weltweit führende Hersteller von Lithografie-Systemen ASML darf weitere Belichter nicht mehr an chinesische Chiphersteller wie SMIC verkaufen.

Das ausgedehnte Verbot betrifft die neueren DUV-Lithografie-Systeme (Deep Ultraviolet, tief-ultraviolettes Licht). Sie verwenden ältere Belichtungstechnik mit einer 193-Nanometer-Lichtquelle, eignen sich aber mit Hindernissen auch für Fertigungsgenerationen bis mindestens 7 nm.

Für solch feine Strukturen werden die Silizium-Wafer mehrfach belichtet (Multi-Patterning). SMIC – Chinas größter Chipauftragsfertiger – stellt so 7-nm-Chips für Huawei her, vermutlich mithilfe kopierter Technik des taiwanischen Konkurrenten TSMC. Komplexere Lithografie-Systeme mit extrem-ultraviolettem (EUV-)Licht (13,5 statt 193 nm Wellenlänge) durfte ASML noch nie nach China verkaufen.

Ausnahmelizenzen

Ursprünglich sollten die verschärften Exportbestimmungen am 01. September 2023 in Kraft treten. Die niederländische Regierung gewährte aber noch einen Aufschub mit Ausnahmelizenzen. ASML hat daraufhin massenweise Systeme an chinesische Kunden verschickt – offensichtlich zum Missfallen der USA.

ASML bestätigte kürzlich einen Bericht der US-Nachrichtenagentur Bloomberg, wonach die US-Regierung schon Ende 2023 auf teilweise Lieferstopps hingewirkt hat: "Eine Lizenz für die Lieferung von NXT:2050i- und NXT:2100i-Lithografie-Systemen im Jahr 2023 wurde kürzlich von der niederländischen Regierung teilweise widerrufen, was sich auf eine kleine Anzahl von Kunden in China auswirkt."

Unklar ist, welche Exportlizenzen ASML jetzt noch hat. Eigentlich sollten alle Ausnahmen bis zum Jahresende 2023 auslaufen. Zumindest SMIC dürfte vom Kauf aktueller DUV-Maschinen abgeschnitten sein.

Alte Belichter von Verboten ausgenommen

Bei den genannten Maschinen hat ASML unter anderem den Wafer-Durchsatz und die Ausrichtungspräzision erhöht. Die sogenannte Überdeckungsgenauigkeit (Chuck-Overlay) gibt an, wie präzise sich Belichtungsmasken und Wafer nach verschiedenen Fertigungsschritten aufeinander ausrichten lassen. Eine hohe Überdeckungsgenauigkeit ist insbesondere beim Multi-Patterning wichtig, um Belichtungsfehler und damit Chipdefekte zu vermeiden.

Die USA setzen die Grenze bei einer Überdeckungsgenauigkeit von 1,5 nm. Damit darf ASML nur noch den Twinscan NXT:1980Di aus dem Jahr 2015 nach China verkaufen. Der aktuelle Twinscan NXT:2100i kommt auf deutlich unter 1,0 nm.

(mma)