Artikel-Archiv c't 17/2003, Seite 50
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Die Rückkehr der Lochkamera
Messeinrichtungen für EUV-Spiegel und Lichtquellen
In ein paar Jahren soll die EUVLithographie Halbleiter mit noch kleineren Strukturen herstellen, doch bislang gibt es weder leistungsfähige Lichtquellen noch hochreflektierende Spiegel. Immerhin stehen seit kurzem Messeinrichtungen zur Verfügung, um Spiegel und Lichtquelle genauer zu begutachten und diese dadurch letztendlich auch zu verbessern.
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