Chinas zweitgrößter Chipfertiger startet angeblich 7-Nanometer-Produktion

China weitet offenbar die Produktionskapazität seiner modernsten Chipfertigungs-Generation aus. Die Chipfertigungssparte der Hua-Hong-Gruppe kann inzwischen angeblich Chips der 7-Nanometer-Klasse herstellen. Bis zum Jahresende soll die Produktion hochfahren, allerdings in einem niedrigen Maßstab: Von mehreren Tausend Wafern pro Monat Ende 2026 ist die Rede.

Zum Vergleich: Der Weltmarktführer TSMC belichtet rund 1,3 Millionen Wafer pro Monat (inklusive älterer und neuerer Fertigungsprozesse). Aktuell ist TSMC mit 2-nm-Strukturen drei komplette Generationen weiter.

Über die 7-nm-Produktion bei der Hua-Hong-Gruppe berichtet die Nachrichtenagentur Reuters anhand von Quellen, die mit dem Prozess vertraut sein sollen. Viele Details über Hua Hongs Chipfertigung sind nicht bekannt. Es liegt aber nahe, dass die Firma den 7-nm-Fertigungsprozess von SMIC übernimmt.

SMIC ist der größte chinesische Chipauftragsfertiger. Weltweit befindet er sich auf Platz 3; laut dem Marktbeobachter Trendforce setzte SMIC 2025 etwa 9,3 Milliarden US-Dollar um. Das entspricht einem weltweiten Marktanteil von 5,3 Prozent. Chinas Nummer 2 Hua Hong belegt weltweit Platz 6 mit 4,5 Milliarden US-Dollar Jahresumsatz.

Huawei zieht wahrscheinlich die Strippen

Laut Reuters soll Huawei bei Hua Hongs 7-nm-Chipproduktion involviert gewesen sein. Huawei betreibt angeblich auch schon eigene Halbleiterwerke, ebenfalls in Kooperation mit SMIC. Übergeordnet leitet die chinesische Regierung die eigene Halbleiterindustrie an. SMICs Fertigungstechnik soll laut früheren Berichten wiederum von TSMCs erster 7-nm-Generation (N7) kopiert sein.

Diese Generation kommt noch ohne extrem-ultraviolette (EUV-)Belichtungsquelle aus. Der einzige Hersteller von EUV-Lithografie-Systemen, ASML, darf solche aufgrund von Exporteinschränkungen nicht nach China verkaufen. Da sich Chinas eigene Lithografie-Systeme bislang für Fertigungsprozesse bis zur 28-nm-Generation eignen, könnten auch bei der Hua-Hong-Gruppe ältere ASML-Systeme zum Einsatz kommen. Sie reichen für 7-nm-Strukturen, wenn ein Wafer mehrfach belichtet wird (Multi-Patterning).

Mehrfachbelichtungen schlagen sich allerdings negativ auf die Ausbeute nieder, da sie die Defektrate steigern. Eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit hilft, allerdings darf ASML auch in dieser Disziplin seine besten Lithografie-Systeme nicht nach China verkaufen. Die Grenze liegt bei einer Genauigkeit von 1,5 nm; möglich ist schon weniger als 1 nm.

Hua Hongs Kapazität funktionierender 7-nm-Chips zum Jahresende dürfte vor allem für Kleinserien reichen. Laut Reuters will der chinesische GPU-Hersteller Biren die 7-nm-Linie verwenden. Denkbar wäre auch ein Fokus auf chinesische KI-Beschleuniger, bei denen auch die Kosten weniger relevant wären als etwa bei Smartphone-Prozessoren.

(mma)