Intel baut neues Chip-Werk für 45-Nanometer-Prozess

Intels Chip-Werke sind begehrt: Versprechen sie doch immer einige neue Arbeitsplätze. So freuten sich die Politiker in Arizona denn auch, dass Intel ankündigte, die neue Fab 32 in dem US-Bundesstaat in der Stadt Chandler zu bauen. In Chandler betreibt Intel bereits Produktionsstätten, für die neue Fab soll eine Investition von 3 Milliarden US-Dollar vorgesehen sein; insgesamt werden laut Intel 1000 neue Arbeitsplätze entstehen.

In dem neuen Werk will Intel Halbleiter auf 300-mm-Wafern produzieren; die Fab 32 wäre damit Intels sechstes 300-mm-Werk -- vier sind bereits in Betrieb, die Fab 12 ist, ebenfalls in Arizona, gerade im Bau. Die 300-mm-Wafer erhöhen die Produktivität von Chipherstellern um das 2,25-fache. Weil weniger Verschnitt anfällt, passen sogar etwa 2,4-mal so viele Chips gleicher Größe auf einen 300-mm-Wafer (12 Zoll) als auf die bisher üblichen 200-mm-Siliziumscheiben (8 Zoll). Bezogen auf einen einzelnen Baustein soll die Herstellung auf 300-mm-Wafern etwa 30 Prozent billiger sein und weniger Energie und Wasser benötigen als die Fertigung auf 200-mm-Wafern. In dem neuen Werk will Intel zudem bis zur zweiten Jahreshälfte 2007 die Mikroprozessorproduktion in einem 45-Nanometer-Prozess aufnehmen.

Einen Kommentar zur Ankündigung des israelischen Premierministers Ariel Sharon, ein Intel-Werk mit einem Investitionsvolumen von 4 Milliarden US-Dollar würde in Kiryat Gat gebaut, lehnten Intel-Sprecher im Rahmen der Ankündigung der Pläne für Arizona erneut ab. Man habe noch keine endgültige Entscheidung über den Ort für die nächste Fabrik getroffen, hieß es bei Intel, eine Ankündigung über Israel könne man gegenwärtig nicht machen. Sharon hatte sich auf ein Telefonat mit dem Ex-CEO und gegenwärtigen Aufsichtsratschef von Intel, Craig Barrett, bezogen, der ihm den Bau der Fabrik in Israel bestätigt habe. Intel lehnte gegenüber US-Medien eine Stellungnahme zu dieser Behauptung ab. (jk)