IBM/Nikon realisieren Elektronenstrahl-Lithografie
Erste Prototypen eines "Belichters" mit Elektronenstrahl-Lithografie ermöglichen Chips mit 80-nm-Strukturen. 50 und 35 nm sollen bald folgen.
IBM hat auf der "Microlithography", einem Treffen der International Society of Optical Engineering, über Erfolge mit ihrer Electron Beam Projection Lithography (EPL) berichtet, mit der sich wesentlich kleinere Chip-Strukturen herstellen lassen.
Das Projekt PREVAIL (Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses) liegt schon -- wie vieles anderes -- seit Jahren in den Schubladen des Patent-Weltmeisters. Nun aber wurde es in Zusammenarbeit mit dem japanischem Kamera- und Mikroskophersteller Nikon in die Tat umgesetzt und ein Prototyp-System entwickelt, mit dem sich bereits 80-nm-Strukturen realisieren ließen. 50- und 35-nm-Stukturen sind mit dem Verfahren laut IBM-Entwickler Hans Pfeiffer ohne weiteres machbar. Damit lassen sich dann mehrere Milliarden Transistoren auf einem Chip unterbringen, wobei sich vor allem "hochrepetitive" Strukturen (also etwa Speicher) für diese Technik empfehlen. Erste PREVAIL-Systeme dürften gegen Ende 2002 auf den Markt kommen.
Einfache Elektronenstrahl-Lithografie leidet darunter, dass sie ausgesprochen langsam mit einem Strahl die Chipstrukturen "malt", sodass sie für die Massenproduktion von Chips nicht in Frage kommt. PREVAIL arbeitet mit einer Vielzahl von Linsen und kann gewisse Grundmuster mit einem Schuss "belichten" (Shaped Spot). Dies erhöht den Durchsatz beträchtlich, wenngleich er immer noch deutlich hinter der Geschwindigkeit bei der optischen Lithografie zurückbleibt. IBM und Nikon sind aber nicht konkurrenzlos auf dem EPL-Gebiet: Die Bell Labs von Lucent arbeitet zusammen mit mehreren Partnern (darunter Applied Materials) an einem Projekt namens SCALPEL (Scattering with Angular Limitation in Projection Electron Beam Lithography). Es soll den Durchsatz von optischen Systemen erreichen. (as)
