Micron und Nanya beschließen DRAM-Joint-Venture
Bis zum Jahresende wollen die beiden Chiphersteller jeweils 550 Millionen US-Dollar investieren, um ein taiwanisches Nanya-Werk von 200- auf 300-Millimeter-Fertigung umzustellen.
Die US-amerikanische Firma Micron und der taiwanische DRAM-Hersteller Nanya heben das Joint Venture MeiYa Technology Corporation aus der Taufe. Nach Klärung der noch offenen juristischen Fragen wollen beide Firmen bis Ende 2009 jeweils 550 Millionen US-Dollar in die Aufrüstung eines bestehenden Nanya-Werks investieren, das bisher Siliziumscheiben mit 200 Millimetern Durchmesser verarbeitet. 2009 soll diese Fab dann die Serienproduktion von Speicherchips auf 300-mm-Wafern aufnehmen.
Nanya, ein Tochterunternehmen des Industriekonglomerats Formosa Plastics Group (FPG) und damit Konzernschwester etwa von VIA Technologies und FIC, hatte bereits Anfang März ein Memorandum of Understanding mit Micron unterzeichnet. Wie andere taiwanische DRAM-Hersteller nutzt Nanya das Know-how und Patent-Portfolio eines etablierten Chipherstellers, doch bisher kooperierte Nanya mit Qimonda (früher: Infineon). Nach dem Auslaufen der Verträge mit Qimonda über die Nutzung der Trench-Zellen-Technik und dem Umstieg von Qimonda auf ein neues technisches Verfahren musste sich Nanya neu orientieren. Statt einer Verlängerung der Kooperation mit Qimonda hat sich Nanya nun offenbar für Micron entschieden. Angeblich will Nanya aber auch die Anteile von Qimonda am gemeinsamen Joint Venture Inotera übernehmen.
Für Micron bietet das Joint Venture MeiYa den Vorzug, mit vergleichsweise niedrigen Investitionen die Fertigungskapazität steigern zu können. Üblicherweise teilen sich die Partner solcher Joint Ventures den Produktausstoß im Verhältnis ihrer Firmenanteile, die in diesem Fall jeweils 50 Prozent betragen. (ciw)
