Lithografie-Systeme: China baut vermeintlich EUV-Maschine

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Ausgehend von Tiktok und X kursiert ein Bild einer chinesischen Maschine mit der dicken Aufschrift "EUV". Viele schlussfolgern daraus, dass China bald Chips mit hochkomplexer extrem-ultravioletter (EUV-)Lithografie-Technik herstellen könnte.

Das wäre ein riesiger Erfolg für das Land, denn bisher stellt ausschließlich ASML aus den Niederlanden EUV-Lithografie-Systeme in Serie her. Aufgrund von Exporteinschränkungen darf ASML solche aber nicht an chinesische Chipfertiger wie SMIC verkaufen. Bisherige EUV-Lithografie-Systeme belichten Chipstrukturen mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer. Sie sind für die modernsten Fertigungsprozesse notwendig.

Chinas größter Chipauftragsfertiger SMIC stellt bisher Chips mit 7-nm-Strukturen her, vornehmlich für Huawei. Ohne EUV-Lithografie-Systeme muss der Hersteller auf Mehrfachbelichtungen (Multi-Patterning) mit tief-ultravioletter Wellenlänge (Deep Ultraviolet, DUV, 193 nm Wellenlänge) setzen. Je feiner die Strukturen werden, desto mehr Belichtungsdurchgänge sind notwendig, was die Fehlerquote erhöht. Schon der 7-nm-Prozess soll nur dank Subventionen wirtschaftlich sinnvoll laufen.

Kein Belichter gezeigt

Auf der Maschine aus China stehen derweil weitere Schriftzeichen, die Google mit "EUV-Lithografie Objektivausrichtung [und] Interferometer" übersetzt. Demnach handelt es sich um ein Gerät zur Ausrichtung und eventuell zum Testen moderner Silizium-Wafer. Das hat aber nichts mit einem Lithografie-System zum Belichten von Chips zu tun, sondern stellt eine Begleitmaschine für die Fertigung dar. Das erklärt auch, warum der Kasten nur etwa halb so groß aussieht wie die EUV-Lithografie-Systeme von ASML.

Der Begriff EUV ist nicht scharf abgegrenzt. Auch andere Wellenlängen fallen in diesen Bereich des Spektrums, etwa Argon-Plasma-Laserquellen, die Strahlung mit 46,9 nm emittieren. Das FZ Jülich forscht daran, wie sich diese Strahlung zur EUV-Interferenzlithographie nutzen lässt.

Angeblich will China im Sommer 2025 die Vorserien- und 2026 die Serienproduktion von EUV-Maschinen beginnen. Allerdings gibt es bisher keine seriösen Quellen, laut denen SMIC oder andere Firmen tatsächlich zeitnah Chips mit EUV-Technik herstellen können.

Vorsicht bei Meldungen zur chinesischen Chipfertigung

Die Falschinformationen zur chinesischen Halbleiterindustrie häufen sich derweil schon seit 2024. Im vergangenen Herbst kursierten etwa Mutmaßungen, China hätte selbst entwickelte DUV-Systeme für Fertigungsprozesse bis 8 nm. Die Quelle dafür waren chinesische Staatsdokumente, die vermutlich falsch übersetzt wurden.

In ihnen steht, dass heimische Firmen Systeme mit DUV-Lithografie für 65-nm-Prozesse mit einem "Overlay" von 8 nm herstellen können. Mit Overlay ist typischerweise die Ausrichtungsgenauigkeit von Wafern gemeint.

(mma)