Zeiss zahlt zur Beilegung von Lithografie-Patentstreitigkeiten
Drei Hightech-Unternehmen haben ihre Patentstreitigkeiten ĂĽber Lithografiesysteme zur Herstellung von Halbleitern beigelegt.
Drei Hightech-Unternehmen haben ihre Patentstreitigkeiten über Lithografiesysteme zur Herstellung von Halbleitern beigelegt. Im Rahmen der Einigung zahlt die Carl Zeiss SMT AG an den japanischen Elektronik-Konzern Nikon umgerechnet rund 48 Millionen Euro. Der niederländische Chipausrüster ASML muss etwa 71 Millionen Euro an Nikon bezahlen.
AuĂźerdem vereinbarten die Unternehmen gegenseitige Lizenzabkommen zur Nutzung von Patenten bei Lithografiesystemen. Die gesamten Rechsstreitigkeiten sollen nach der Erwartung der drei beteiligten Parteien endgĂĽltig im November eingestellt sein, wenn die Gerichte der beantragten Einstellung der Verfahren in den USA und Asien entsprochen haben. Dann sollen auch die Lizenzabkommen in Kraft treten, hieĂź es bei Zeiss. (jk)
