Chip-Forschungsallianz ohne Intel

Mit AMD, IBM, Infineon und Micron haben vier wichtige Chiphersteller zusammen mit dem US-Bundesstaat New York eine Forschungsallianz mit dem Codenamen "Invent" geschlossen. Ziel der 580-Millionen-Dollar-Vereinbarung - an der Intel nicht Teil hat - ist die Entwicklung neuer Lithograpie-Verfahren zur Chipherstellung.

Jeder der vier Partner will in den nächsten fünf Jahren 50 Millionen US-Dollar in das Projekt stecken. Zu diesen 200 Millionen US-Dollar kommt nochmals dieselbe Summe von diversen Herstellern von Lithographie-Werkzeugen und Materialien. Der Staat New York will 180 Millionen US-Dollar investieren. Stattfinden soll die Forschung am Albany Nanotech Institut, das zur State University von New York gehört.

Für die Chipherstellung ist die Lithographie einer der kritischen Prozesse. Dabei überträgt man die Maske auf eine lichtempfindliche Fotolackschicht auf dem Wafer. Nach dem Entwickeln können die nicht durch Lack geschützten Bereiche weggeätzt werden. Da die aktuellen Halbleiterstrukturgrößen auf Grund von Beugungseffekten schon nicht mehr mit sichtbarem Licht realisierbar sind, geht die Entwicklung zu UV- und Extrem-UV-Licht (EUV). Für die Fokusierung von Licht mit so kurzen Wellenlängen sind allerdings Linsen nicht mehr geeignet, in der Forschung werden derzeit Spiegel hoch gehandelt. Bis EUV-Technik in die Serienfertigung Einzug hält, können noch einige Jahre vergehen -- Fachleute rechnen damit nicht vor 2010.

Derzeit gilt die Fertigung im 90-Nanometer-Prozess als Stand der Technik, 65-Nanometer-Prozesse sind bereits in der Erprobung und sollen schon 2006 für die Serienfertigung von PC-Prozessoren eingesetzt werden. ASML, ein Hersteller von Lithographie-Werkzeugen, hat für das Invent-Projekt einen ersten Prototypen einer 45-Nanometer-Maschine an das Forschungszentrum in Albany geliefert. Eine einzelne solche Maschine kann bis zu 25 Millionen US-Dollar kosten. (bbe)