Infineon und Canon gemeinsam zum 70-nm-Chip

Infineon und Canon wollen bei der Entwicklung der 70-Nanometer-Chips zusammenarbeiten. Wie die Unternehmen heute in einer gemeinsamen Presseerklärung mitteilten, wurde zwischen beiden Firmen ein gemeinsames Forschungsprojekt zur Entwicklung von Photo-Lithographie-Systemen vereinbart. Bis zum Jahr 2006 sollen die Chips für die Prozessoren künftiger Computergenerationen reif für die Serienfertigung sein.

Als Lichtquelle für die lithographische Herstellung der 70-nm-Architektur ist ein Fluor-Laser vorgesehen, dessen Wellenlänge lediglich 157 nm beträgt. Die bisher im Einsatz befindlichen Laser haben deutlich größere Wellenlängen. Auch der in der Chip-Produktion bei Infineon vorgesehene Argon-Fluor-Laser mit 193 nm Wellenlänge kann im künftigen Lithographie-Prozess aus physikalischen Gründen nicht verwendet werden.

Der Laser selbst ist allerdings das geringste Problem, stellt Dr. Carsten Fülber, Lithographie-Experte von Infineon-Dresden gegenüber heise online klar: "Bis zur Markteinführung müssen noch mehrere technische Probleme gelöst werden. Dazu gehören etwa ein neues Spiegel-Linsensystem zur Abbildung des Laserlichtes". Bisher arbeiteten solche Abbildungssysteme ausschließlich mit Linsen. Weiterhin müssten neue Basispolymere und Lacksysteme für den Lithographie-Prozess entwickelt werden. (thd)