"Defect Engineering" optimiert Leistungshalbleiter

Durch Beschuss mit Helium-Ionen lassen sich die Eigenschaften von Silizium-Wafern fĂĽr Leistungshalbleiter verbessern.

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Durch Beschuss mit Helium-Ionen lassen sich die Eigenschaften von Silizium-Wafern fĂĽr Leistungshalbleiter verbessern. Das Spin-Off nanoparc des Forschungszentrums Rossendorf (bei Dresden) kooperiert mit der deutschen IXYS-Tochter IXYS Semiconductor, um dieses Verfahren kommerziell zu verwerten.

Dazu bauen die Partner am 3-Megavolt-Tandetron-Beschleuniger des FZ Rossendorf einen automatischen Wafer-Handler auf, der mehrere tausend Wafer pro Monat verarbeiten soll. Die auf diesen Siliziumscheiben hergestellten Leistungsbauteile -- etwa Dioden für Netzteile und Steuerschaltungen -- sollen höhere Grenzfrequenzen erreichen und mit geringeren Verlusten arbeiten. (ciw)