Intel forciert Entwicklung von EUV-Lithographie

Chiphersteller Intel hat laut Mitteilung ein technisches Entwicklungsabkommen geschlossen, um mit Cymer eine Strahlungsquelle für EUV-Lithographie zu entwickeln. Zu diesem Zweck will Intel die auf die Entwicklung von UV-Lichtquellen wie Excimer-Laser spezialisierte Firma in den nächsten fünf Jahren mit insgesamt 20 Millionen US-Dollar unterstützen. Weitere Details des Vertrages wurden nicht bekannt gegeben.

EUV steht für Extremes Ultraviolett und beschreibt die Chipherstellung mit Lithographie bei einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer. Zunächst sollen damit Strukturen von 45 und 32 Nanometer lithographisch hergestellt werden, später 22 nm und darunter. Die kommerzielle Nutzung der EUV-Lithographie ist nach derzeit existierenden Plänen ab 2009 vorgesehen. (wst)