Allianz für lithografische Masken plant Produktionsstart
Die Pilotproduktion des Maskenhauses von Infineon, AMD und DuPont Photomasks soll noch in der zweiten Jahreshälfte in Dresden anlaufen.
Die Technologieallianz von Infineon, AMD und DuPont Photomasks zur Entwicklung und Produktion von lithografischen Masken für Chips mit kleineren Strukturgrößen nimmt praktische Formen an: Die Pilotproduktion soll noch in der zweiten Jahreshälfte in Dresden anlaufen. Die ersten Anlagen werden noch in diesem Monat installiert, teilte das Maskentechnologiezentrum am heutigen Montag mit.
Das neue Maskenhaus, an dem Infineon, AMD und DuPont Photomasks zu gleichen Teilen beteiligt sind, wird vom Bund mit rund 125 Millionen Euro gefördert, weitere Förderungsgelder, unter anderem vom Land Sachsen und der EU, sollen ebenfalls fließen. Die Gesamtinvestition beläuft sich in den nächsten Jahren auf rund 500 Millionen Euro, rund 270 Arbeitsplätze entstehen nach den Plänen der beteiligten Partner. Die in dem Maskenhaus geplanten Forschungsarbeiten sollen die Basis für die nächsten drei Chipgenerationen bis ins Jahr 2008 liefern. (jk)
