Infineon will Chip-Entwicklung in Dresden konzentrieren
Die bisher im US-amerikanischen East Fishkill betriebene DRAM-Entwicklung soll zu Gunsten von Dresden komplett aufgegeben werden.
Der Halbleiter-Hersteller Infineon will die Entwicklung von Speicherchips in Dresden konzentrieren. Rund 300 Mitarbeiter sollen in der sächsischen Landeshauptstadt künftig die Entwicklung der nächsten Speicherchip-Generationen (DRAM) für den gesamten Konzern vorantreiben, sagte ein Firmen-Sprecher. Er bestätigte damit einen Bericht der Dresdner Neueste Nachrichten. Die Investitionen beliefen sich auf "zweistellige Millionenhöhe". Nähere Angaben dazu machte Infineon nicht. Bis zu 60 Ingenieurs-Jobs sollen neu entstehen.
Die bisher in East Fishkill (USA) betriebene DRAM-Entwicklung soll danach zu Gunsten von Dresden komplett aufgegeben werden. Hintergrund sei eine am US-Standort Ende des Jahres auslaufende Entwicklungskooperation mit einem anderen Halbleiter-Unternehmen, sagte der Sprecher. Von Dresden aus solle die Technologie nach Erreichen der Produktionsreife in die übrigen Werke in den USA und nach Taiwan transferiert werden.
Laut dem Zeitungsbericht werden 15 Ingenieure aus den USA nach Dresden geholt. Auch Chip-Experten von Nanya Technology aus Taiwan sollen nach Abschluss entsprechender Verträge nach Dresden kommen, die als neuer Infineon-Partner die Entwicklung der Chips der Zukunft mit voranbringen sollen. Das neue Dresdner Entwicklungsteam, das bereits seine Arbeit aufgenommen habe, soll bis Mitte nächsten Jahres auf rund 300 Mitarbeiter anwachsen, sagte der Unternehmenssprecher.
Infineon beschäftigt derzeit nach eigenen Angaben in Dresden mehr als 4300 Mitarbeiter. Dresden hatte sich bereits mehrfach als Entwicklungsstandort des Konzerns bewiesen. Die dort gemeinsam mit Motorola betriebene Pilotlinie für die 300-Millimeter-Fertigung hatte zum Aufbau eines weiteren Chipwerkes in Dresden geführt. Zudem wird in der sächsischen Landeshauptstadt ein von Infineon, AMD und DuPont Photomasks gemeinsam betriebenes Zentrum für die Entwicklung von lithographischen Masken für Chips mit kleineren Strukturgrößen errichtet. (dpa) / (tol)
