Masken aus Dresden für die 32- und 22-Nanometer-Halbleiter-Lithografie
Das Bundesministerium für Bildung und Forschung fördert ein Verbundprojekt des Dresdner Maskenzentrums von AMD, Qimonda und Toppan mit der Physikalisch-technischen Bundesanstalt und der Firma Vistec.
Mit 7,9 Millionen Euro fördert das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) ein Verbundprojekt des Dresdner Jointventures von AMD, Qimonda und Toppan (AMTC) mit der Physikalisch-technischen Bundesanstalt (PTB) und der Firma Vistec Semiconductor Systems zur Entwicklung von Masken für die Halbleiter-Lithografie. Ziel des bis 2012 laufenden Projekts Critical Dimension und Registration für die 32nm Maskenlithographie (CDuR32) ist es, für die ab 2012 in den Dresdner Fabs von AMD und Qimonda erwartete Belichtung von 32-Nanometer-DRAM-Strukturen und 22-Nanometer-Logik/CPU-Strukturen rechtzeitig die nötigen Masken fertigen zu können.
Im Rahmen des CDuR32-Projekts erarbeitet und untersucht das Dresdner AMTC laut Pressemeldung die Grundlagen für die Maskenfertigung der 32- und 22-nm-Technik. Vistec entwickelt eine neue Messgeräte-Generation namens LMS IPRO5 zur Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit auf diesen Masken. Die PTB soll spezielle Messtechnik und neue mathematische Auswertungsverfahren für die Qualitätssicherung der Masken einbringen.
Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) war 2002 ursprünglich von den Firmen AMD, Infineon und DuPont Photomasks gegründet und 2003 eröffnet worden. Nachdem Infineon Qimonda abgespalten und die japanische Firma Toppan den US-Konkurrenten DuPont geschluckt hatte, betreiben jetzt AMD, Qimonda und Toppan das Jointventure, das bereits von 2003 bis 2007 an dem vom BMBF mit 80 Millionen Euro geförderten Projekt Abbildungsmethodiken für nanoelektronische Bauelemente beteiligt war. (ciw)
