Canon kauft Abteilung für Nano-Imprint-Lithografie von Halbleitern
Das texanische Unternehmen Molecular Imprints fertigt Maschinen zur Mikrostrukturierung, etwa von Chips, Displays und Festplatten-Magnetscheiben.
Seit 2009 kooperiert der japanische Konzern Canon, der auch Anlagen für die Halbleiterfertigung verkauft, mit dem texanischen Startup Molecular Imprints. Dieses Spin-off der Uni Texas hat Verfahren und Maschinen zur Nano-Imprint Lithography (NIL) entwickelt: Damit lassen sich Nanostrukturen auf Halbleiter-Wafern, LC-Displays oder auch den Magnetscheiben für Festplatten (Patterned Media) erzeugen.
(Bild: Molecular Imprints)
Nun übernimmt Canon jene Abteilung von Molecular Imprints, welche die J-Fil-Technik zur Bearbeitung von Wafern entwickelt hat. In ungefähr zwei Jahren soll J-Fil bei der Serienfertigung von Flash-Speicherchips zum Einsatz kommen.
(Bild: Molecular Imprints)
J-Fil steht für Jet and Flash Imprint Lithography. Bei dem Verfahren wird zunächst eine spezielle Flüssigkeit genau dosiert auf dem Wafer aufgebracht. Das soll im Vergleich zum üblichen Spin-Coating mit Fotolack große Mengen an Chemikalien einsparen. Mit NIL-Technik sollen sich außerdem Strukturen erzeugen lassen, die mit herkömmlicher (Immersions-)Lithografie mehr Zeit erfordern oder größeren Aufwand wie Double Patterning.
Mit der Imprio 450 kann Molecular Imprints eine Anlage liefern, in die auch 450-mm-Wafer passen.
Die Sparten für die Strukturierung von Displays, Magnetscheiben und andere Anwendungen verbleiben bei Molecular Imprints. (ciw)
