Beihilfe beim Dresdner Zentrum für Lithographie-Masken abgenickt
Prognostiziertes Marktwachstum, die durch das Projekt geschaffenen direkten und indirekten Arbeitsplätze und die eingehaltene Beihilfeobergrenze führten zur Genehmigung durch die EU-Kommission.
Wie bereits erwartet, dürfen die Halbleiterhersteller Infineon, AMD und DuPont ihr Masken-Entwicklungszentrum in Dresden mit staatlicher Hilfe bauen. Die EU-Kommission gab am heutigen Mittwoch auch offiziell grünes Licht für rund 98 Millionen Euro Beihilfen bei dem Projekt. Infineon, AMD und der US-Konzern DuPont wollen in einer Mitte 2002 geschlossenen Allianz Belichtungsmasken zur Herstellung von Halbleitern entwickeln.
Mit rund einem Viertel der Investitionskosten von 400 Millionen Euro liege die Subvention unterhalb der zulässigen Grenze. Sachsen gehört zu einem Fördergebiet, in dem laut Kommission bis zu 28 Prozent der förderfähigen Investitionskosten durch staatliche Hilfe finanziert werden können: Die geplante Investitionsbeihilfe liege mit einer Intensität von 25,2 Prozent der förderfähigen Investitionskosten unterhalb der zulässigen Beihilfeobergrenze.
Die Finanzspritze schaffe rund 170 neue direkte Arbeitsplätze und habe positive Auswirkungen auf die Region, erklärten die EU-Wettbewerbshüter weiter und führten aus: "Fotomasken sind ein Wachstumsmarkt. Nach Angaben der Bundesregierung wuchs der Markt im Zeitraum 1996 bis 2001 wertmäßig um 15,9 Prozent. Für den Zeitraum 2002 bis 2005 hat ein Gutachter eine Wachstumsrate von jährlich 18 Prozent prognostiziert. Angesichts des Marktwachstums und der durch das Projekt geschaffenen direkten und indirekten Arbeitsplätze hat die Kommission beschlossen den angemeldeten Beihilfebetrag zu genehmigen." (jk)
