Erste Entscheidung im Patentstreit bei Halbleiter-Fabrikationsanlagen

ASML, ein niederländischer Hersteller von Anlagen zur Chip-Herstellung, freut sich über eine Entscheidung der US-Wettbewerbshüter der International Trade Commission: Eine Beschwerde der japanischen Nikon wurde zurückgewiesen. Nikon hat bereits angekündigt, gegen diese Entscheidung Berufung einzulegen.

Nikon stellt, genau wie ASML, Geräte für die Fotolithografie her. Das sind wichtige Maschinen für die Herstellung von Halbleiter-Bauelementen. Nur durch ständige Umrüstung oder Neubeschaffung solcher Anlagen sind die Chipfirmen in der Lage, die Strukturen auf den Halbleitern immer weiter zu verkleinern.

Die Japaner hatten bereits im Dezember 2001 eine Beschwerde bei der USITC gegen ASML eingereicht, weil die Niederländer ihre Patente verletzten. ASML reagierte darauf mit eigenen Patentklagen gegen Nikon (mittlerweile außer in Japan auch in den USA und in Südkorea) und einer Gegenbeschwerde bei der USITC. Letztere hat nun die Beschwerde von Nikon gegen ASML zurückgewiesen, sodass die Niederländer ihre Aufträge weiter beliefern können.

ASML und die japanischen Firmen Canon und Nikon sind die wichtigsten Anbieter solcher Lithografiegeräte; ASML ist im Jahr 2000 durch den Kauf der US-Firma Silicon Valley Group (SVG) zum Branchenprimus aufgestiegen. Die USA sind einer der wichtigsten Märkte für Lithografiesysteme.

Branchenkenner bewerten die Entscheidung der USITC als wenig überraschend: Hätte die Kommission der Beschwerde von Nikon stattgegeben, wäre die US-Halbleiterbranche bei einer Schlüsselkomponente ausschließlich von japanischen Anbietern abhängig geworden. Schon gegen die Übernahme von SVG durch ASML hatten US-Behörden Bedenken angemeldet.

Wegen der anhaltenden Halbleiter-Branchenschwäche verdienen die Anlagenhersteller schlecht; ASML musste schon mehrfach Stellen streichen und schließt zwei der drei übernommenen SVG-Sparten. (ciw)